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日本産業洗浄協議会,「洗浄技術フォーラム2019」を開催

 日本産業洗浄協議会(JICC)は,2019年9月4日(水)~6日(金)にパシフィコ横浜(横浜市西区)で開催される「2019洗浄総合展」(主催:日本洗浄技能開発協会,日本産業洗浄協議会,日刊工業新聞社)にて,9月5日(木)に「第23回JICC洗浄技術フォーラム2019~IoT,EV,5Gそしてスマートソサエティー時代の洗浄技術を考える~」を開催する。

 同フォーラムでは,近藤 隆造 氏(シチズンファインデバイス)による招待講演「時計メーカーから総合精密加工メーカーへ」のほか,洗浄剤,洗浄装置メーカー5社による技術発表,また,1Fメインステージで行われる,泉谷 渉 氏(日本電子デバイス産業協会)による特別講演「激動の時代を迎えた電子デバイス産業の未来構図~半導体,電子部品,自動車部品の設備投資を最新リポート~」(特別講演は聴講無料)が行われる。同フォーラムの概要や申し込み,問い合わせ先は以下のとおり。

  • 日時:2019年9月5日(木) 10:00~17:00
  • 会場:パシフィコ横浜 アネックスホールF203・204会議室
     ※特別講演は1Fメインステージへ移動して聴講
  • 定員:180名
  • 申込締切日:2018年8月28日(水)
  • 聴講料:会員 13,000円/人+税,非会員 17,000円/人+税(カラーテキスト代含む)
     ※テキストのみの申込み:特別価格1冊 7,000円+税
  • 申し込み方法:日本産業洗浄協議会ホームページから聴講申込用紙をダウンロードして必要事項を記入のうえ,E-mailに添付して送付
     ※期日が切迫してから申し込む場合,あらかじめ電話でご確認ください
  • プログラム
    10:00~10:10 開会挨拶 甲斐 博泰 氏(日本産業洗浄協議会 会長,トクヤマMETEL)
    10:10~10:50 【技術発表】「難しいフラックス洗浄に挑む MPC洗浄の有用性」 加納 裕也 氏(ゼストロンジャパン)
    11:00~12:00 【特別講演】「激動の時代を迎えた電子デバイス産業の未来構図 ~半導体,電子部品,自動車部品の設備投資を最新リポート~」 泉谷 渉 氏(日本電子デバイス産業協会 副会長)
     ※1Fメインステージへ移動して聴講
    13:00~13:50 【招待講演】「時計メーカーから総合精密加工メーカーへ」 近藤 隆造 氏(シチズンファインデバイス)
    14:00~14:40 【技術発表】「洗浄専門業における洗浄装置・洗浄事例と品質管理」 本間 尚貴 氏(本間産業)
    14:40~15:20 【技術発表】「水系洗浄機の液汚染度と付着油分の測定」 松村 繁廣 氏(森合精機)
    15:30~16:10 【技術発表】「フッ素系洗浄機3機種『縦型ワンバス式FISTA』『プッシャー搬送式2槽式FISTA』『フッ素系多槽式省溶剤洗浄機』の紹介」 岡村 和彦 氏(クリンビー)
    16:10~16:50 【技術発表】「次世代フッ素系溶剤AMOLEA® AS-300のご紹介」 花田 毅 氏(AGC 化学品カンパニー)

<問い合わせ・申し込み先>
日本産業洗浄協議会 事務局
TEL 03-5777-0791  FAX 03-5777-0675
E-mail sskjicc@jicc.org
http://www.jicc.org/event/forum.html  ('19 7/17)