アークプラズマ成膜装置
パルスアーク蒸着により,膜の平坦性,微粒子の形成など他の蒸着法では得られない効果が得られるアークプラズマ成膜装置
用途
DLCの生成,カーボンナノチューブ用ナノ粒子形成,燃料電池など電極材への触媒ナノ粒子の担持
特長
- Å相当の膜厚からμmオーダーの膜厚制御までパルス数で簡単に膜厚制御が可能
- プロセスガスが不要かつUHV中での動作が可能で,膜中への雰囲気ガス成分の混入を低減する
- 最大400Vの充電電圧と高エネルギー密度で蒸着することにより,平坦かつ密着性の高い緻密な膜が得られる
- 成膜材料は,φ10mm×17mmのサイズでOK
- 照射面積は約φ50mm(±10%)
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